Parametric study of methane dissociation and deposition rates in a Ar/CH4 RF plasma - Université d'Orléans Accéder directement au contenu
Poster De Conférence Année : 2021

Parametric study of methane dissociation and deposition rates in a Ar/CH4 RF plasma

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-03431563 , version 1 (16-11-2021)

Identifiants

  • HAL Id : hal-03431563 , version 1

Citer

Erik von Wahl, Ianis Ellien, Thomas Lecas, Maxime Mikikian. Parametric study of methane dissociation and deposition rates in a Ar/CH4 RF plasma. Journées 2021 du GDR EMILI, Oct 2021, Palaiseau, France. ⟨hal-03431563⟩
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